【机床商务网栏目 国内旧事】近日，荷兰半导体装备供给商阿斯麦尔(ASML)公布，或将推延向中国半导体系体例造商交付极紫外光光刻机(EUV)。该公司讲话人暗示，此决议是由于出口许可证到期，今朝正在向荷兰当局申请新的许可证。 作为极紫外光刻芯片东西(EUV)的供给商，延迟发货将对中国芯片制造形成重击。而此次遭到影响的中国公司，疑为中芯(SMIC)。
日经旧事援用动静人士的话称，ASML成为美国当局的“牺牲品”，“延迟发货”的一年夜缘由来自在美国当局的压力。 对此，ASML在7日回应，指出公司正在申请许可证，但日经旧事所述“延迟出货”仅为其媒体猜测，ASML对此事从未评论或确认。 中芯也就此事回应称，公司的EUV还处在“纸面工作”阶段，还没有进行相干勾当。中芯强调，����Ϸapp今朝，公司的进步前辈工艺研发进展顺遂，研发与出产的毗连一切一般，客户与装备导入均一般运作。 虽然中芯已澄清发文澄清，可是鉴在中兴的前车可鉴，光刻机作为芯片制造的必须装备，假如真的断供我们国度是不是有解救办法呢？中国的光刻机手艺又是不是能取代国外呢？ ASML光刻机有多利害？ 光刻机，被称为现代光学工业之花，制造难度很是年夜，全球只要少数几家公司可以或许制造。其售价高达7000万美金。用在出产芯片的光刻机是中国在半导体装备制造上年夜的短板，国内晶圆厂所需的光刻机完全依靠进口。 在可以或许制造机械的这几家公司中，特别以荷兰(ASML)手艺为进步前辈。价钱也为昂扬。光刻机的手艺门坎极高，可谓人类聪明集年夜成的产品。 光刻机跟拍照机差不多，它的底片，是涂满光敏胶的硅片。电路图案经光刻机，缩微投射到底片，蚀刻失落一部门胶，显露硅面做化学处置。制造芯片，要反复几十遍这个进程。位在光刻机中间的镜头，由20多块锅底年夜的镜片串连构成。镜片得高纯度透光材料+高质量抛光。SMEE光刻机利用的镜片，得数万美元一块。ASML的镜片是蔡司手艺打底。镜片材质做到平均，需几十年到上百年手艺积淀。 别的，光刻机需要体积小，但功率高而不变的光源。ASML的光刻机，利用波长短的极紫外光，光学系统极复杂。有的镜头和光源，没的机器精度，也是白费。光刻机里有两个同步活动的工件台，一个载底片，一个载胶片。二者需一直同步，误差在2纳米以下。两个工作台由静到动，加快度跟导弹发射差不多。贺荣明说：“相当在两架年夜飞机从起飞到下降，一直齐头并进。一架飞机上伸出一把美金，在另外一架飞机的米粒上刻字，不克不及刻坏了。”并且，温湿度和空气压力转变会影响对焦。“机械内部温度的转变要节制在千分之五度，得有适合的冷却方式，的测温传感器。”贺荣明说。SMEE好的光刻机，包括13个分系统，3万个机器件，200多个传感器，每个都要不变。像欧洲杯决赛，任何一小我阐扬变态就要输球。 今朝，只要一家企业在光刻机市场上占有了80%的份额，就是处在荷兰的ASML，旗下所研发的EUV光刻机曾售价高达1亿美元一台，并且还纷歧定有货。皆因每台光刻机的拆卸年夜约需要50000个零件摆布。上的芯片制造商如Intel、台积电、三星都是它名下的股东。 中国光刻机手艺和ASML的差距有多年夜？ 今朝，中国的光刻机手艺和ASML比拟，最少有10年以上的差距，短时候内很难追上。 在光刻机范畴，有人按照ASML的手艺并连系芯片制造，分为四个档次，别离是超，，中端，低档。别离对应的节点别离5/7nm工艺、7-28nm工艺、28-65nm工艺，65-90nm工艺。今朝ASML的产物笼盖所有档次，而nikon的产物逗留在28nm这个节点，cannon和smee(上海微电子)逗留在90nm这个节点。 是的，中国的高手艺是90nm，出产出来的光刻机处在低端，只能出产90nm的芯片，而在90nm以后，还65nm，45nm，32nm，22nm，14nm，10nm，7nm，5nm。而这些节点手艺，有好几个台阶要上，起首是45nm的台阶，再到22nm的台阶，再到10nm台阶，再到7nm的台阶，真的是一步一个坎，有些坎几年都未必可以或许更新出一代来。 所以说，从今朝的这个环境来看，国产光刻机手艺掉队ASML最少是10年以上。也就是说，假如真的断供，“卡脖子”的工作极有可能产生。 (材料来历不雅察者网、金属加工、铁流等)
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